| 導電玻璃導電度的提升─溶膠處理法 |
| 導電玻璃的需求： |
| 液晶本身不會發光，必須在液晶顯示面板後方加上背光源，光線穿透玻璃基板、液晶、彩色濾光片、偏光板，進入人眼才能 |
| 看到影像。因為所有材料必須能透光，所以液晶顯示器面板的基板要使用玻璃。但是，由於玻璃無法導電，必須在其上鍍上 |
| 一層薄薄的二氧化矽與氧化銦錫，讓玻璃產生導電度；加上成膜以及蝕刻處理技術的發展，使ITO 透明導電膜廣泛應用 |
| 在影像顯示技術上。 |
| 導電玻璃的製造： |
| 導電玻璃的製造步驟如下：玻璃 → 形成透明導電膜基層 → 活化 → 燒結，各步驟分別說明如下： |
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形成透明導電膜基層：目前透明導電膜之製造方法，主要分成二大類： |
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1.以銦、錫為靶材，利用CVD方式形成透明導電膜； |
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2.以氧化銦、二氧化錫為靶材，利用PCVD方式形成透明導電膜； |
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形成透明導電膜後，必要時則以濺射法形成添加施體元素之透明導電膜。 |
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活化：將以蒸鍍或濺鍍形成的透明導電膜基層，以高溫（超過200℃）的鹽酸或硝酸反應，使形成導電層。 |
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燒結：將活化的導電玻璃以中溫（300～500℃）的溫度進行燒結，使導電層結構安定化。 |
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| 現有製造導電膜方法的問題： |
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設備投資費用高； |
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材料價格昂貴；且隨電阻值下降（導電度上升），操作成本直線上升； |
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隨電阻值下降（導電度上升），透光度也隨之下降； |
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活化步驟，環境污染嚴重； |
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需要高溫燒結，不適用於塑膠薄膜。 |
| 溶膠處理法作用的原理： |
| 導電玻璃的製造步驟如下：玻璃 → 形成透明導電膜基層 → 活化 → 燒結，各步驟分別說明如下： |
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提升導電度部份：實際上，剛由蒸鍍或濺鍍形成的氧化銦∕二氧化錫透明導電膜的電阻值甚高（10kΩ以上），必 |
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須經活化步驟，洗去部份二氧化錫，形成孔洞，才有良好的導電度；但高溫的強酸作用，其均勻性不易控制，造 |
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成電阻值偏高；奈米溶膠處理以奈米級二氧化錫填入孔洞，使孔洞均勻性提高，進而降低電阻值（提高導電度）。 |
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提高透光度：玻璃表面本就有許多微小孔洞（蒸鍍或濺鍍無法改善），這些微小坑洞會把入射光雜亂地反射到各個 |
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方向上（下圖-左），造成表面光澤不良，透亮度偏低；奈米溶膠處理可使玻璃表面平整化 （下圖-右），提高透光度。 |
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| 處理結果：不同導電度的導電玻璃，經不同種類Sol-gel處理，其性質差異如下： |
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