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不同處理方式對ITO電
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奈米溶膠在紡織產業之應用
隔熱處理(抗 IR)
 
 
導電玻璃導電度的提升─溶膠處理法
導電玻璃的需求:
液晶本身不會發光,必須在液晶顯示面板後方加上背光源,光線穿透玻璃基板、液晶、彩色濾光片、偏光板,進入人眼才能
看到影像。因為所有材料必須能透光,所以液晶顯示器面板的基板要使用玻璃。但是,由於玻璃無法導電,必須在其上鍍上
一層薄薄的二氧化矽與氧化銦錫,讓玻璃產生導電度;加上成膜以及蝕刻處理技術的發展,使ITO 透明導電膜廣泛應用
在影像顯示技術上。
導電玻璃的製造:
導電玻璃的製造步驟如下:玻璃 → 形成透明導電膜基層 → 活化 → 燒結,各步驟分別說明如下:
形成透明導電膜基層:目前透明導電膜之製造方法,主要分成二大類:
1.以銦、錫為靶材,利用CVD方式形成透明導電膜;
2.以氧化銦、二氧化錫為靶材,利用PCVD方式形成透明導電膜;
形成透明導電膜後,必要時則以濺射法形成添加施體元素之透明導電膜。
  活化:將以蒸鍍或濺鍍形成的透明導電膜基層,以高溫(超過200℃)的鹽酸或硝酸反應,使形成導電層。  
  燒結:將活化的導電玻璃以中溫(300~500℃)的溫度進行燒結,使導電層結構安定化。  
現有製造導電膜方法的問題:
設備投資費用高;
材料價格昂貴;且隨電阻值下降(導電度上升),操作成本直線上升;
隨電阻值下降(導電度上升),透光度也隨之下降;
活化步驟,環境污染嚴重;
需要高溫燒結,不適用於塑膠薄膜。
溶膠處理法作用的原理:
導電玻璃的製造步驟如下:玻璃 → 形成透明導電膜基層 → 活化 → 燒結,各步驟分別說明如下:
提升導電度部份:實際上,剛由蒸鍍或濺鍍形成的氧化銦∕二氧化錫透明導電膜的電阻值甚高(10kΩ以上),必
須經活化步驟,洗去部份二氧化錫,形成孔洞,才有良好的導電度;但高溫的強酸作用,其均勻性不易控制,造
成電阻值偏高;奈米溶膠處理以奈米級二氧化錫填入孔洞,使孔洞均勻性提高,進而降低電阻值(提高導電度)。
  提高透光度:玻璃表面本就有許多微小孔洞(蒸鍍或濺鍍無法改善),這些微小坑洞會把入射光雜亂地反射到各個  
    方向上(下圖-左),造成表面光澤不良,透亮度偏低;奈米溶膠處理可使玻璃表面平整化 (下圖-右),提高透光度。  
   
處理結果:不同導電度的導電玻璃,經不同種類Sol-gel處理,其性質差異如下:
   
       
 
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