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隔熱處理(抗 IR)
 
 
 
不同處理方式對ITO電 阻值的影響

1.浸泡3分鐘後,浸入D.I.H2O,靜置乾燥後,120℃∕10min:

種類

濃度 (%)

電阻值(Ω)
處理前 處理後 處理前 處理後 處理前 處理後
TiO2 0.2 3.24 3965 3.16 0.04 3.23 286.9
0.8 3.15 2.21 3.17 1.26 3.24 3.94
1.0 3.31 0.015 3.17 1.58 3.19 1.65
SnO2 0.2 3.30 0.03 3.23 105.9 3.26 222.1
1.0 3.31 1334 3.18 1375 3.25 31990

2.浸泡3分鐘後,浸入D.I.H2O,(加超音波震盪),靜置乾燥後,120℃∕10min:

種類

濃度 (%)

電阻值(Ω)
處理前 處理後 處理前 處理後 處理前 處理後
TiO2 0.2 3.04 3.25 3.16 3.24 3.21 3.18
0.8 3.20 2.74 3.25 2.85 3.27 3.01
SnO2 0.2 3.16 3.07 3.18 2.98 3.17 2.38
1.0 3.19 3.27 3.21 2.95 3.18 2.38

3.浸泡3分鐘後,浸入D.I.H2O(二次),靜置乾燥後,120℃∕10min:

種類

濃度 (%)

電阻值(Ω)
處理前 處理後 處理前 處理後 處理前 處理後
TiO2 0.2 3.27 1905 3.17 6227 3.12 1.15
0.8 3.39 2.57 3.26 2.65 3.27 1.05
SnO2 0.2 2.87 1.72 2.98 1.86 2.84 1.38
1.0 2.99 0.54 2.96 0.95 2.93 0.69

4.浸泡3分鐘後,浸入D.I.H2O,,先以3℃∕min升溫至50℃, 停留10min,再以4℃∕min升至 120℃(10min):

種類

濃度 (%)

電阻值(Ω)
處理前 處理後 處理前 處理後 處理前 處理後
TiO2 0.2 3.07 1.48 3.09 1.54 2.78 1.58
0.8 2.78 0.21 3.06 0.15 3.16 0.31
SnO2 0.2 3.07 3.27 3.10 3.23 3.08 3.49
1.0 2.71 1.45 2.73 1.61 2.84 1.82
 
 
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